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镀硬铬添加剂
详细介绍

镀硬铬添加剂(专利产品:ZL201310046888.8)

一、简介

HEEC系列镀铬添加剂属最新一代镀铬添加剂,是有机复合添加剂。

适合于镀硬铬、微裂纹铬,也可用于装饰铬等。

工艺可应用于纺机、活塞环、凹印制版、减震器、结晶器、瓦楞辊、液压支柱、军工产品、日用五金等方面。此添加剂都可在不锈钢、铸铁、铝合金、铜等不同基体上获得良好的镀层。本公司添加剂种类:HEEC-I、HEEC-II、HEECIII、HEEC-V。

二、几种添加剂的主要区别

HEEC-I HEEC-II HEEC-III

开缸量 6~10 mL 10~15 mL 15~25 mL

最佳开缸量 8mL 12 mL 20 mL

对阳极影响 对纯铅、铅锑和铅锡都有不同程度的腐蚀。 对纯铅、铅锑有腐蚀;对铅锡(含8%锡)不腐蚀。 对纯铅、铅锑和铅锡
都不腐蚀。

(可以根据不同厂家的需要来选择相应添加剂,目前建议使用HEEC-III)

三、工艺特点

1、光亮电流密度范围宽,镀层细致光亮,深镀能力好。不含氟无稀土。

2、可按客户要求控制 镀层光亮度,可发白亮、青兰亮和乌黑亮。

3、HEEC工艺镀液稳定,抗杂性强,易于操作维护。

4、镀层硬度高,硬度可达750HV~1280HV。

5、镀层呈微裂纹,微裂纹数可达400~1000条/厘米。

6、阴极电流效率高,可达22%~27%,可节电约一半,工作效率提高。

7、不含氟无稀土,对阳极和镀件不镀部位不会产生腐蚀。

四、工艺规范

铬酐(CrO3) 250(150~300)g/L

硫酸(H2SO4) 2.7(2.0~3.5)g/L

HEEC-Ⅲ(开缸) 20 (15~25) mL /L

电流密度 60(30~80)A/dm2

温度 60(60±2)℃

阳极阴极面积比 不小于 2∶1

五、补充

方法1:每加五十公斤铬酐同时加HEEC-Ⅲ补缸剂1.6L或2公斤。

方法2:按消耗量补加,消耗量为3-6 mL/KAh。

方法3:沉积每平方分米每丝镀层消耗添加剂是:8~10mL。

六、镀液配制

1、加入镀液总体积70%的纯水,加热,将铬酐溶解。2、补加纯水至所需体积。3、取样分析镀液中硫酸的含量,并调整至工艺规定的浓度范围。4、加入HEEC-Ⅲ添加剂并搅拌均匀。5、安装铬雾回收装备更好。在没安装情况下,可适当加入铬雾抑剂。6、升温。7、电解4~6小时后、试镀。8、正式电镀生产。

七、说明

1、沉积速度及电流效率:镀铬电流密度高,电流效率高,所以镀铬如条件允许,应尽可能用大电流。

沉积速度可参考下表:

电流密度

(A/ dm2) … 20 30 40 50 60 70 80 …

传统工艺沉积

速度(μm/h) … 7-10 12-15 18-25 23-28 28-35 35-40 40-45 …

HEEC工艺沉积

速度(μm/h) … 15-20 20-32 35-45 45-58 50-70 65-80 85-95 …

2、杂质:使用此加添加剂总量不能超过20g/L。

3、阳极:阳极建议使用铅锡合金(含锡约8%),铅锑合金、铅阳极也可。

4、镀槽:镀槽建议使用衬塑铁槽。

七、转缸

由普通镀铬液转换为HEEC-Ⅲ快速镀铬液特别容易,镀液杂质不超标,不含氟化物,可直接按HEEC-Ⅲ工艺加添加剂生产。如果以前加过稀土或氟化物必须进过详细的化验,进行镀液调整后方可转换。

八、镀液分析方法

1、铬酐的测定:用滴定法测定,若镀液杂质较少,也可用比重法测定。

2、硫酸的测定:用离心法测定,硫酸根快速测定仪,详见使用说明书。

3、三价铬的测定:用目视比色法测定,仪器使用详见说明书。

4、杂质(Fe3+、Cu2+、CL—、NO3—等)的测定:需要建立专用镀铬分析实验室。

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